上海培因?qū)嶒瀮x器有限公司鹽霧試驗箱的操作規(guī)程

試驗前準(zhǔn)備

1、周圍無強(qiáng)烈震動源

2、試驗箱應(yīng)放置平穩(wěn)，保持水平，四周應(yīng)留有一定距離，以方便操作、維修。

3、工作室底部應(yīng)加入自來水，以不超過溢水橡皮的高度為準(zhǔn)，使箱內(nèi)保持一定水位。

4、箱體上部四周的密封水槽內(nèi)灌入2/3的自來水，以關(guān)閉箱蓋后不外溢為準(zhǔn)。

5、將噴嘴安裝到噴霧器上。

6、空氣飽和器內(nèi)加入蒸餾水（或去離子水），水位高度為液面計透明管上限線。加水時打開空氣飽和氣的進(jìn)水閥和排氣閥，加到規(guī)定水位后，關(guān)緊閥門。長時間試驗后，空氣飽和氣內(nèi)的水分消耗，應(yīng)及時補(bǔ)充蒸餾水（或去離子水），水位高度不低于液面計透明管下限線。

7、 水溶液采用氯化鈉NaCL（化學(xué)純）和蒸餾水配成5±0.1%的鹽水溶液。霧化后的收集液，除擋板擋回部分外，不能重復(fù)使用。鹽水溶液可用酸度計或PH試紙測其PH值。35℃時，PH值應(yīng)在6.6-7.2范圍內(nèi)。若不在范圍內(nèi)，可用稀鹽酸或氫氧化鈉調(diào)整。

8、用橡膠管把貯水箱和工作室內(nèi)噴霧器的進(jìn)水口連接好，將配置好的5%濃度溶液加入貯水箱內(nèi)。鹽水不能低于貯水箱的下限標(biāo)記，以免影響噴霧效果。

9、箱體后面的排霧管排出的鹽霧排出室外或下水道。排霧管不能堵塞，以免影響鹽霧的排出，而影響整個試驗。

10、將箱體右側(cè)的進(jìn)氣口與壓縮空氣源相連接（噴霧系統(tǒng)用氣與箱門開啟用氣共用一氣源），空氣壓縮機(jī)打出的壓縮空氣由*極調(diào)壓閥調(diào)節(jié)到3.5—4Kgf/cm2，噴霧壓力由減壓閥調(diào)到0.8—1.2Kgf/cm2。調(diào)節(jié)壓力時將壓力調(diào)節(jié)旋鈕拔出，調(diào)節(jié)完后需按下。

11、把箱體里面的漏斗架放好，集霧器上的橡膠管分別和對應(yīng)的漏斗連接好，試驗過程中可以隨時從外面集霧器上讀出里面的鹽霧沉降量。

12、沉降量大小可以通過調(diào)節(jié)噴霧器上端蓋板的開啟度及壓縮空氣的噴霧壓力來進(jìn)行。

試驗步驟

1、準(zhǔn)備就緒后即可按“電源”按鈕，接通電源指示燈亮，表示試驗箱已通電。

2、設(shè)定好試驗工作室溫度和飽和器溫度的值，（一般工作室溫度設(shè)定在35℃，中性試驗時飽和溫度設(shè)定在45-48℃，酸性試驗時，飽和溫度設(shè)定在50-52℃）。溫控儀OUT燈亮，表示加熱部分開始加熱升溫，達(dá)到設(shè)定溫度后OUT燈熄。如果工作室溫度超過設(shè)定的上限值（一般溫度設(shè)定在40℃）則AL1燈亮，電氣控制箱面板上的超溫?zé)袅?，同時切斷工作室的加熱電源，以保護(hù)箱體不被破壞。

3、當(dāng)工作室和飽和器溫度達(dá)到預(yù)定值，應(yīng)接通空氣壓縮機(jī)電源，這時噴霧系統(tǒng)開始工

作，即試驗開始。試驗時間可以自動控制，也可以人工控制。如果自動控制，先將電氣

控制箱上“定時噴霧”的時間繼電器的延時時間設(shè)定到所需的試驗時間，然后把“控制

方式”旋鈕，旋到“自動”位置。則試驗時間開始自動控制。試驗時間達(dá)到設(shè)定的時間

后，即自動切斷電源，整個試驗結(jié)束。如果試驗時間需人工控制，則將“控制方式”旋

鈕，旋到“手動”位置，這樣試驗時間由人為掌握，到試驗時間則按電源按鈕，切斷電

源試驗結(jié)束。

4、噴霧方式有連續(xù)噴霧和周期噴霧。如需連續(xù)噴霧，只要把電氣控制箱面板上的“噴

霧方式”旋鈕，旋到“連續(xù)”位置；如需周期噴霧則先將周期噴霧時間繼電器周期時間

設(shè)定好，然后把“噴霧方式”旋鈕，旋到“周期”位置，即可實(shí)現(xiàn)間隙噴霧的方式。

5、整個試驗結(jié)束后，應(yīng)急時切斷空氣壓縮機(jī)電源，把管道內(nèi)的存氣，存水放凈。

維護(hù)保養(yǎng)

1、若試驗箱停用五天以上，必須把鹽水溶液倒掉，把整個工作室噴霧器等零件用水沖洗干凈，保持內(nèi)外清潔。

2、空氣壓力調(diào)節(jié)閥應(yīng)定期檢查。

3、如長期不用后，重新開機(jī)做試驗，對電氣控制系統(tǒng)進(jìn)行檢查，尤其是溫度控制器和時間繼電器。

4、如果發(fā)現(xiàn)噴霧嘴污垢堵塞，可拆下噴嘴，用酒精、甲苯或1：1鹽酸清洗，或用細(xì)鋼

絲疏通，注意不得損傷噴孔內(nèi)腔的表面光潔度，以免影響噴霧質(zhì)量。